Instalación de vacío de flujometría de patrones IVFP

DESTINACIÓN

La instalación está destinada para reproducir y medir con precisión las unidades de flujo de gas en vacío, así como para verificar y calibrar las medidas de flujo de gas en vacío.

PRINCIPIO FUNCIONAL

La instalación implementa dos principios de medición:

– principio de acumulación, basado en la medición de cambios en la presión absoluta a lo largo del tiempo en el volumen de medición de la instalación mediante vacuómetros de referencia;

– principio de comparación basado en la comparación utilizando un comparador espectrométrico de masas del flujo de gas (helio) a medir de una fuga verificada (calibrada) con un flujo de gas (helio) conocido de un patrón de flujo de referencia.

APLICACIÓN INDUSTRIAL

Industria aeroespacial, simulación espacial, ingeniería eléctrica, tecnología de semiconductores, metalurgia, industria nuclear, física de partículas, metrología, investigación científica, tecnologías para el cultivo de películas delgadas y cri

Rango de mediciones de 1∙10-11 a 1∙10-5 Pa∙m3/s
Límites del error tolrable
relativo de mediciones:
— en el rango de 1∙10-11 a 1∙10-9 Pa∙m3/s ±(15-10) %
— en el rango de más de 1∙10-9 a 1∙10-5 Pa∙m3/s ±(10-5) %